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　　抛光机由底座、抛板、抛光布、抛光罩、罩组成。电机抛光机固定在底座上，用于固定抛光盘的锥套通过螺钉与电机轴连接。抛光布用套圈固定在抛光盘上，电机由底座上的开关启动后，用手在滚动抛光盘上施加压力进行抛光。

　　参与抛光过程的抛光液可通过固定在底座上的塑料板的排水管流入抛光机旁的方板。本实用新型可防止机器不使用时灰尘等杂物落在抛光布上，影响使用效果。

　　抛光机运行的关键是要获得较大的抛光速度，以便尽快去除抛光过程中产生的损伤层。还必须确保抛光损伤层不会影响最终调查的排列，即不会造成错误排列。

　　前者要求使用粗磨料，以确保有较大的抛光速度去除受损的抛光层，但受损的抛光层也较深;后者要求使用精细信息使受损的抛光层较浅，但抛光速度较低。对付这种对立的一个好办法是把抛光分为两个阶段。

　　粗抛光的目的是去除损伤层。在这个阶段，应该有一个大的抛光速度。不应考虑粗糙抛光造成的表面损伤，但应尽可能小。拉丝机后进行精抛光(或终抛光)，旨在消除粗抛光造成的表面损伤，并在一定程度上减少抛光损伤。

　　用抛光机抛光时，试样和抛光盘的研磨面应平行、均匀地压在抛光盘上，并注意防止试样因压力过大而飞出和产生新的磨痕。同时，试样应旋转，并沿转盘半径来回移动，防止抛光布磨损过快。在抛光过程中，应不断增加微粉悬浮液，使抛光织物粘附在一定的湿度下。

　　如果湿度过高，抛光的磨痕效应减弱，试样中的硬相出现凸出，钢中的非金属夹杂物和铸铁中的石墨相出现“拖尾”;如果湿度过低，试样因冲撞加热而温度升高。润滑效果会降低，磨削表面会失去光泽，甚至出现黑点，而轻合金会损坏表面。

　　为了达到粗抛光的目的，要求转盘转速低，不超过500r/min;抛光时间应长于去除划痕所需的时间，因为应去除变形层。粗抛光后，磨削表面润滑，但很钝。显微镜下有均匀细小的磨痕，需要通过精磨去除。

　　精抛光时适当提高转盘转速，抛光时间宜丢弃粗抛光的损伤层。抛光后的磨削表面光洁如镜，在显微镜开视场条件下看不到划痕，但在相差光照条件下仍能看到磨削痕迹。

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